[发明专利]包含垂直退耦电容器的半导体器件有效

专利信息
申请号: 200680023597.5 申请日: 2006-05-23
公开(公告)号: CN101213666A 公开(公告)日: 2008-07-02
发明(设计)人: M·莱勒;K·弗罗贝格;C·施万 申请(专利权)人: 先进微装置公司
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 戈泊
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供一种用于退耦电容器的垂直或三维非平面式配置(non-planar configuration),其显著地降低高电荷载体储存容量的电容器所需的晶粒面积。该退耦电容器的非平面式配置在非常关键的栅极图案化工艺期间亦提供增进的图案均匀性。
搜索关键词: 包含 垂直 电容器 半导体器件
【主权项】:
1.一种半导体器件(200、300、400、500),包含:形成算术单元的多个晶体管组件(250、350);及具有非平面式配置的退耦电容器(240、340、440、540),所述退耦电容器(240、340、440、540)连接至所述算术单元。
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