[发明专利]用于引燃低压等离子体的方法和装置

摘要

公开了一种用于在等离子体处理系统中引燃等离子体的方法，该系统具有等离子体处理室、至少一个通电的电极和引燃电极。该方法包括将基片引入该等离子体处理室。该方法还包括将气体混合物流入该等离子体处理室；在激发频率激励该引燃电极；并且使用该引燃电极从该气体混合物激发等离子体。该方法进一步包括使用目标频率激励该至少一个通电电极，其中该激发频率高于该目标频率；并且当在该等离子体处理室中处理该基片时去激励该引燃电极。

主权项

1.一种用于在等离子体处理系统中引燃等离子体的方法，所述等离子体处理系统具有等离子体处理室、至少一个通电的电极和引燃电极，所述方法包括：将基片引入所述等离子体处理室中；以一定压力将气体混合物流入所述等离子体处理室；以激发频率激励所述引燃电极；使用所述引燃电极，从所述气体混合物激发等离子体；利用目标频率激励所述至少一个通电电极，其中，所述激发频率大于所述目标频率；以及当在所述等离子体处理室中处理所述基片时，去激励所述引燃电极。