[发明专利]图案形成方法无效

专利信息
申请号: 200680024481.3 申请日: 2006-06-16
公开(公告)号: CN101218545A 公开(公告)日: 2008-07-09
发明(设计)人: 高岛正伸;小森一树;石川弘美;冈崎洋二;大森利彦 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F7/033
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 朱丹
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种图案形成方法,其在使用了具备将描绘单位二维地分布的曝光头的数字曝光装置的曝光中,可以在压缩成本的同时,通过将各描绘单位的光量均匀化,而高精度地形成微细的图案。为此,至少包括如下操作:对该感光层经由具有光分布修正机构的聚光光学系统照射从光照射机构中射出的光束而进行曝光,该光束被上述光调制机构调制,该曝光如下进行,即,使从上述光照射机构向上述光调制机构照射的光束的照射区域内的光量中具有分布,由上述光调制机构调制了的光束的光量分布被修正为在上述感光层的被曝光面上达到均匀化。
搜索关键词: 图案 形成 方法
【主权项】:
1.一种图案形成方法,其特征是,至少包括如下操作:在被处理基体上层叠了在支承体上具有感光层的图案形成材料中的该感光层后,将从光照射机构中射出的光束经由具有光分布修正机构的聚光光学系统,向具有n个(其中n为1以上的自然数)二维排列的描素部并与图案信息对应地使上述每个描素部改变光调制状态的光调制机构照射,将被上述光调制机构调制的光束向该感光层照射而进行曝光,该曝光如下进行,即,使从上述光照射机构向上述光调制机构照射的光束的照射区域内的光量中具有分布,由上述光调制机构调制了的光束的光量分布被修正为在上述感光层的被曝光面上达到均匀化。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200680024481.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top