[发明专利]图案形成方法无效
申请号: | 200680024481.3 | 申请日: | 2006-06-16 |
公开(公告)号: | CN101218545A | 公开(公告)日: | 2008-07-09 |
发明(设计)人: | 高岛正伸;小森一树;石川弘美;冈崎洋二;大森利彦 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F7/033 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 朱丹 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种图案形成方法,其在使用了具备将描绘单位二维地分布的曝光头的数字曝光装置的曝光中,可以在压缩成本的同时,通过将各描绘单位的光量均匀化,而高精度地形成微细的图案。为此,至少包括如下操作:对该感光层经由具有光分布修正机构的聚光光学系统照射从光照射机构中射出的光束而进行曝光,该光束被上述光调制机构调制,该曝光如下进行,即,使从上述光照射机构向上述光调制机构照射的光束的照射区域内的光量中具有分布,由上述光调制机构调制了的光束的光量分布被修正为在上述感光层的被曝光面上达到均匀化。 | ||
搜索关键词: | 图案 形成 方法 | ||
【主权项】:
1.一种图案形成方法,其特征是,至少包括如下操作:在被处理基体上层叠了在支承体上具有感光层的图案形成材料中的该感光层后,将从光照射机构中射出的光束经由具有光分布修正机构的聚光光学系统,向具有n个(其中n为1以上的自然数)二维排列的描素部并与图案信息对应地使上述每个描素部改变光调制状态的光调制机构照射,将被上述光调制机构调制的光束向该感光层照射而进行曝光,该曝光如下进行,即,使从上述光照射机构向上述光调制机构照射的光束的照射区域内的光量中具有分布,由上述光调制机构调制了的光束的光量分布被修正为在上述感光层的被曝光面上达到均匀化。
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