[发明专利]多重散射校正无效
| 申请号： | 200680024504.0 | 申请日： | 2006-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN101218501A | 公开（公告）日： | 2008-07-09 |
| 发明（设计）人： | A·特伦;J－P·施洛姆卡 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/04 | 分类号： | G01N23/04;G01N23/20;A61B6/03;A61B5/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 王英 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 根据本发明一个方面，对于多重散射辐射，可以提供对在能量解析衍射方法中测得的X射线强度的校正，而无需对已检查的对象的几何形状做出任何假设。根据本发明一个典型实施例，评估一级光谱中阳极材料的特征线，产生对已检测的光谱的成分分析，这可以允许校正其多重散射部分。 | ||
| 搜索关键词： | 多重 散射 校正 | ||
【主权项】：
1.一种用于检查感兴趣对象(107)的检查装置(100)，该检查装置(100)包括：辐射源(104)，其适于发射电磁辐射；检测器部件，其具有至少一个用于采集辐射强度数据的检测单元(123)；预处理部件(125)，所述预处理部件(125)适于：确定所述辐射强度数据的特征峰附近的第一多重散射强度；基于所述第一多重散射强度校正所述辐射强度数据。
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