[发明专利]远心轴上暗场照明所实施的光学系统的优化使用及性能有效

专利信息
申请号: 200680024877.8 申请日: 2006-07-07
公开(公告)号: CN101218500A 公开(公告)日: 2008-07-09
发明(设计)人: 里欧·鲍德温;约瑟·J.·伊莫瑞 申请(专利权)人: 伊雷克托科学工业股份有限公司
主分类号: G01N21/88 分类号: G01N21/88
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人: 许静
地址: 美国奥*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供一种系统及方法,通过本发明提出以成像平面镜状物体(102),诸如:半导体晶圆。于实施例中,用于成像于平面镜状物体(102)的缺陷的一种成像系统(100)包括远心透镜(110),其具有充分非球面表面,使远心透镜实质修正光学像差。成像系统(100)还包括远心光圈(116),于其包括孔径,以阻断自平面镜状物体(102)所反射的光线而允许自缺陷所反射的光线为通过孔径。成像系统(100)更包括透镜群组(108),其具有定位于远心光圈(116)与透镜群组(108)之间的系统光圈。透镜群组(108)无关于远心透镜(110)而实质修正光学像差。
搜索关键词: 心轴 暗场 照明 实施 光学系统 优化 使用 性能
【主权项】:
1.一种成像系统,用于使平面镜状物体上的缺陷成像,该种成像系统包括:远心透镜,其具有充分非球面表面,使该远心透镜充分地修正光学像差;远心光圈,其包括孔径,以阻断自该平面镜状物体所反射的光线而允许自该缺陷所反射的光线通过该孔径;及透镜群组,其具有定位于该远心光圈与该透镜群组之间的系统光圈,该透镜群组无关于远心透镜而充分地修正光学像差。
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