[发明专利]用于CMP垫修整的增强式末端执行臂装置有效

专利信息
申请号: 200680024920.0 申请日: 2006-07-10
公开(公告)号: CN101218067A 公开(公告)日: 2008-07-09
发明(设计)人: 斯蒂文·J·贝纳 申请(专利权)人: TBW工业有限公司
主分类号: B24B33/00 分类号: B24B33/00
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 代理人: 颜涛;郑霞
地址: 美国宾夕*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种化学机械平坦化修整设备的增强式末端执行臂,用于改善设备的可靠性和修整及抛光操作的质量,其包括修整器头,该修整器头具有可提供修整盘和所述臂之间的简化对准/连接的部件,同时还提供用于维护操作的“快速释放”机构。这个增强式臂还包括改进的致动器,该致动器提供所述臂的无静态阻力的运动以及对所述修整盘施加至所述抛光垫的下压力的更佳控制。在所述增强式末端执行臂中使用一种双驱动滑轮系统以最小化当所述臂枢轴旋转以跟随“老化”的抛光垫的轮廓时所述执行臂内的驱动带的倾斜。
搜索关键词: 用于 cmp 修整 增强 末端 执行 装置
【主权项】:
1.在化学机械平坦化修整系统中,一种用于控制研磨修整盘对抛光垫表面的作用的末端执行臂,所述末端执行臂包括:修整器头,其布置在所述执行臂的第一、自由端,所述修整器头包括:带键的对准/连接元件,其经布置后接触相关的研磨修整盘,带键的对准元件包括叶轮主体,所述叶轮主体具有公知键形的中央凹入部分并且包括用于在对准的连接中啮合所述研磨修整盘的至少一个连接构件;至少一个顶出机构,其布置在所述修整器头的外围并被配置成将下压力施加至相关的修整盘上,足以当需要从所述修整器头移除所述修整盘时破坏由所述带键的对准/连接元件提供的啮合;以及致动器机构,其布置在所述末端执行臂的第二、固定端,用于控制所述修整器头相对于抛光垫的平移运动和所施加的下压力。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TBW工业有限公司,未经TBW工业有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200680024920.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top