[发明专利]用于CMP垫修整的增强式末端执行臂装置有效
申请号: | 200680024920.0 | 申请日: | 2006-07-10 |
公开(公告)号: | CN101218067A | 公开(公告)日: | 2008-07-09 |
发明(设计)人: | 斯蒂文·J·贝纳 | 申请(专利权)人: | TBW工业有限公司 |
主分类号: | B24B33/00 | 分类号: | B24B33/00 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 | 代理人: | 颜涛;郑霞 |
地址: | 美国宾夕*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种化学机械平坦化修整设备的增强式末端执行臂,用于改善设备的可靠性和修整及抛光操作的质量,其包括修整器头,该修整器头具有可提供修整盘和所述臂之间的简化对准/连接的部件,同时还提供用于维护操作的“快速释放”机构。这个增强式臂还包括改进的致动器,该致动器提供所述臂的无静态阻力的运动以及对所述修整盘施加至所述抛光垫的下压力的更佳控制。在所述增强式末端执行臂中使用一种双驱动滑轮系统以最小化当所述臂枢轴旋转以跟随“老化”的抛光垫的轮廓时所述执行臂内的驱动带的倾斜。 | ||
搜索关键词: | 用于 cmp 修整 增强 末端 执行 装置 | ||
【主权项】:
1.在化学机械平坦化修整系统中,一种用于控制研磨修整盘对抛光垫表面的作用的末端执行臂,所述末端执行臂包括:修整器头,其布置在所述执行臂的第一、自由端,所述修整器头包括:带键的对准/连接元件,其经布置后接触相关的研磨修整盘,带键的对准元件包括叶轮主体,所述叶轮主体具有公知键形的中央凹入部分并且包括用于在对准的连接中啮合所述研磨修整盘的至少一个连接构件;至少一个顶出机构,其布置在所述修整器头的外围并被配置成将下压力施加至相关的修整盘上,足以当需要从所述修整器头移除所述修整盘时破坏由所述带键的对准/连接元件提供的啮合;以及致动器机构,其布置在所述末端执行臂的第二、固定端,用于控制所述修整器头相对于抛光垫的平移运动和所施加的下压力。
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