[发明专利]用于制备内单元结构的方法、内单元结构和显示器

摘要

本发明提供：在不使用光掩模的情况下，通过减小在光敏层的曝光表面上形成的图案的分辨率的变化和密度的不均匀性制备内单元结构的方法；通过上述方法制备的精细内单元结构；以及使用该内单元结构的显示器。所述用于制备内单元结构的方法包括通过指定用于N多次曝光的像素部分，使用曝光头将光敏层曝光，控制所述像素部分使得只有被指定的像素部分参与曝光，并且使所述曝光头朝扫描方向相对移动；以及将曝光的光敏层显影，其中安置所述曝光头使得所述像素部分的列方向具有相对于曝光头的扫描方向的倾斜安装角。

主权项

1.一种用于制备内单元结构的方法，所述方法包括：通过以下步骤使用曝光头将位于基底的表面上的光敏层曝光：通过使用在曝光头中的可用像素部分指定单元，从可用像素部分之中指定用于N多次曝光(N为2以上的自然数)的像素部分，通过使用在曝光头中的像素部分控制单元，控制像素部分使得只有被所述的可用像素指定单元指定的像素部分参与曝光，和使所述曝光头朝所述曝光头的扫描方向相对移动；以及将在所述曝光步骤中曝光的所述光敏层显影，其中所述光敏层包含光敏组合物，所述光敏组合物至少含有粘合剂；并且所述曝光头包含：光辐照单元；在二维上安置的n个像素部分(n为2以上的自然数)，其每一个接收来自所述光辐照单元的光；光调制单元，其被配置成根据图案信息控制所述像素部分的每一个，并且安置所述曝光头使得所述像素部分的列方向具有相对于所述曝光头的扫描方向的倾斜安装角θ；所述可用像素部分指定单元；以及所述像素部分控制单元。