[发明专利]将材料图样连续沉积在基底上的设备和方法

摘要

材料图样被连续沉积到基底上。基底和掩模在圆筒的一部分上被连续地带到一起，在那里沉积源放出材料。掩模包括形成图样的孔，并且来自沉积源的材料穿过掩模的图样并且聚集到基底上以形成材料图样。基底的和掩模的伸长和横向位置可以被控制。基底的图样元件和掩模的图样元件能够被感测到以便调节基底和/或掩模的伸长和/或横向位置以保持精确的对准。此外，孔可能具有在100微米或者更小量级上的最小尺寸，从而在基底上建立具有在100微米或者更小量级上的最小尺寸的特征。

主权项

1.一种用于在基底上连续地沉积材料图样的设备，包括：基底递送辊，从所述基底递送辊递送所述基底；第一基底接收辊，在所述第一基底接收辊上接收所述基底，使得所述基底从所述基底递送辊延伸至所述基底接收辊，所述基底从所述基底递送辊连续地通至所述基底接收辊；第一掩模，所述第一掩模含有形成第一图样的孔，其中所述一个或多个孔具有100微米或更小的最小尺寸；第一掩模递送辊，从所述第一掩模递送辊递送第一掩模；第一掩模接收辊，在所述第一掩模接收辊上接收所述第一掩模，使得所述掩模从所述掩模递送辊延伸至所述掩模接收辊，所述第一掩模从所述第一掩模递送辊连续地通至所述第一掩模接收辊；第一圆筒，在所述第一圆筒上，在从所述基底及掩模递送辊的递送和所述基底及掩模接收辊上的接收之间，所述基底和所述第一掩模在所述第一圆筒的圆周部分上发生接触，所述第一圆筒连续地旋转；以及第一沉积源，所述第一沉积源被设置成朝着所述第一掩模的部分连续地引导第一沉积材料，所述部分位于所述第一圆筒的所述圆周部分上，使得所述第一沉积材料的至少一部分穿过所述第一掩模的所述孔，以在所述基底上连续地沉积所述第一材料的所述第一图样。