[发明专利]栅格起偏镜及其制法无效
| 申请号： | 200680026794.2 | 申请日： | 2006-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN101228463A | 公开（公告）日： | 2008-07-23 |
| 发明（设计）人： | 村上俊秀;涩谷明庆 | 申请（专利权）人： | 日本瑞翁株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 张平元 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种栅格起偏镜，其包括包含透明材料的第1层、包含透明材料的第3层以及位于第1层和第3层之间的第2层；第2层，其包括细长线状延伸的多个A层和细长线状延伸的多个B层，这些A层和B层被交替并列配置，所述A层包含双折射率(N＝n－iκ)的实部n和虚部κ之差的绝对值为1.0以上的材料，所述B层包含气体；第3层，其通过包含与无机材料结合的反应基团和与有机材料结合的反应基团的化合物与A层结合、或包含透明的无机氧化物或无机氮化物、或包含多孔性物质。 | ||
| 搜索关键词： | 栅格 起偏镜 及其 制法 | ||
【主权项】：
1.一种栅格起偏镜，其包括：包含透明材料的第1层、包含透明材料的第3层、以及位于第1层和第3层之间的第2层；第2层，其包括呈细长线状延伸的多个A层和细长线状延伸的多个B层，这些A层和B层被交替并列配置，所述A层包含双折射率(N＝n-iκ)的实部n和虚部κ之差的绝对值为1.0以上的材料，所述B层包含气体；第3层通过包含与无机材料结合的反应基团和与有机材料结合的反应基团的化合物与A层结合、或第3层包含透明的无机氧化物或无机氮化物、或第3层包含多孔性物质。
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