[发明专利]投影透镜偏振传感器、光刻投影系统、测量偏振状态的方法

摘要

公开了一种光刻设备，包括被配置用于调节辐射束的照射系统；被配置用于至少部分地连接到掩模版台的偏振传感器，其中所述掩模版偏振传感器的部件可以以用于常规的掩模版的方式在光刻设备中被加载和卸载。在一种配置中，主动式掩模版工具包括被配置用于改变施加给从照射系统中的场点接收到的偏振光的推迟的可旋转推迟器。在另一配置中，被动式掩模版工具被配置为偏振传感器模块阵列，其中由固定的推迟器施加给接收光的推迟量根据偏振传感器模块的位置而变化。相应地，可以测量对于在给定场点上接收到的光的多个推迟条件，其中可以完全确定在所给定的场点上的光的偏振状态。在另一配置中，偏振传感器被配置用于测量投影透镜对于通过投影透镜的光的偏振状态的影响。

主权项

1.一种投影透镜偏振传感器，所述投影透镜偏振传感器被配置用于测量从光刻设备的投影透镜产生的偏振贡献，所述投影透镜偏振传感器包括：针孔，所述针孔设置在掩模版中，所述掩模版被设置为存在于光刻设备的掩模版台中，所述针孔被配置用于接收来自照射器的辐射，所述辐射具有第一偏振状态并被配置用于使第一辐射束透射通过投影透镜；第一光学元件，所述第一光学元件被配置为定位在光刻设备的晶片水平面，并被配置用于反射第一辐射束，以产生第二辐射束；第二光学元件，所述第二光学元件被配置用于将第二辐射束引导到另一个部件；偏振器，所述偏振器被设置用于对从第二光学元件接收到的辐射进行偏振化；以及检测器，所述检测器被设置用于接收偏振辐射。