[发明专利]研磨剂组合物和研磨方法无效
| 申请号： | 200680028977.8 | 申请日： | 2006-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN101238192A | 公开（公告）日： | 2008-08-06 |
| 发明（设计）人： | 神谷广幸;次田克幸 | 申请（专利权）人： | 旭硝子株式会社;AGC清美化学股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;H05K3/26 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 沙永生 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及研磨剂组合物，它是包含磨粒、氧化剂、电解质和水性介质的研磨剂组合物，其特征在于，由前述电解质生成的离子包括铵离子、作为选自多元羧酸根离子和羟酸根离子的至少1种的有机羧酸根离子以及选自碳酸根离子、碳酸氢根离子、硫酸根离子和乙酸根离子的至少1种离子。在树脂基材1上设置配线沟2，在配线沟2中埋入配线金属3后，使用本发明的研磨剂组合物对配线金属3进行研磨。由此，使对树脂基材1和金属配线3的损伤的发生达到最低限度，研磨速度快，可以使生产效率提高。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨剂 组合 研磨 方法 | ||
【主权项】：
1.研磨剂组合物，它是包含磨粒、氧化剂、电解质和水性介质的研磨剂组合物，其特征在于，由前述电解质生成的离子包括铵离子、作为选自多元羧酸根离子和羟酸根离子的至少1种的有机羧酸根离子以及选自碳酸根离子、碳酸氢根离子、硫酸根离子和乙酸根离子的至少1种离子。
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