[发明专利]中空二氧化硅颗粒、包含它们的组合物以及它们的制备方法有效
| 申请号： | 200680029083.0 | 申请日： | 2006-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN101299989A | 公开（公告）日： | 2008-11-05 |
| 发明（设计）人： | K·K·卡拉;M·D·布茨;D·S·威廉姆斯;S·E·杰诺维斯 | 申请（专利权）人： | 宝洁公司 |
| 主分类号： | A61K8/25 | 分类号： | A61K8/25;C01B33/18 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 张钦 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了包含中空二氧化硅颗粒的组合物及其制备方法，所述颗粒由包含含硅化合物的组合物制成，所述含硅化合物选自由下列物质组成的组：四烷氧基硅烷、三烷氧基硅烷及其衍生物、二烷氧基硅烷及其衍生物、烷氧基硅烷及其衍生物、硅氧烷低聚物、低聚倍半硅氧烷和硅氧烷低聚物。所述含硅化合物分散在聚合物模板内核上，所述内核将从所述颗粒中消除。本发明的颗粒具有基本均匀的粒度并显示对液体的低渗透性。 | ||
| 搜索关键词： | 中空 二氧化硅 颗粒 包含 它们 组合 以及 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种包含含二氧化硅中空颗粒的组合物，其中用于制备所述颗粒的方法包括以下步骤：制备模板颗粒；向所述模板颗粒表面提供偶联剂；提供含硅化合物以将包含二氧化硅的外壳沉积到所述模板颗粒上，以在所述模板颗粒上形成基本均匀的涂层；和通过首先将所述模板颗粒加热至325℃至525℃，优选375℃至475℃的第一温度第一时间段，优选2至6小时，然后将所述模板颗粒加热至525℃至900℃，优选550℃至700℃的第二温度第二时间段，优选2至6小时，来消除所述模板颗粒，从而制得中空二氧化硅颗粒，其中所述组合物为化妆品组合物。
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