[发明专利]接触光刻设备、系统和方法无效
| 申请号： | 200680029255.4 | 申请日： | 2006-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN101375209A | 公开（公告）日： | 2009-02-25 |
| 发明（设计）人： | D·斯图尔特;W·吴 | 申请（专利权）人： | 惠普开发有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 王岳;王小衡 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 接触光刻设备100，220、系统200和方法300利用形变320来促进图案转移300。设备100，220、系统200和方法300包括间隔体120，226，在与所述间隔体120，226相互接触时，所述间隔体120，226提供光刻元件，如掩模110，228a，222和衬底130，228b，224的间隔平行且靠近的取向310。所述掩模110，228a，222、所述衬底130，228b，224和所述间隔体120，226之一或多者是可形变的，从而其形变320促进了图案转移300。 | ||
| 搜索关键词： | 接触 光刻 设备 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种接触光刻设备100，220，其包括:具有图案化区域112的掩模110，228a，222，所述图案化区域112具有光刻图案；以及布置在所述掩模110，228a，222和被构图衬底130，228b，224之间的间隔体120，226，当所述掩模110，228a，222和所述衬底130，228b，224与所述间隔体120，226相互接触时，所述间隔体120，226提供所述掩模110，228a，222和所述衬底130，228b，224之间分隔平行且靠近的取向310，其中所述掩模110，228a，222、所述衬底130，228b，224和所述间隔体120，226之一或多者是可形变的，从而形变320促进了图案转移300。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于惠普开发有限公司，未经惠普开发有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200680029255.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种监控系统的数据转换和传输设备
- 下一篇：水润滑径向轴承试验装置
