[发明专利]使用复制的图案化外形和自组装单层的微加工有效
申请号: | 200680029400.9 | 申请日: | 2006-07-31 |
公开(公告)号: | CN101243209A | 公开(公告)日: | 2008-08-13 |
发明(设计)人: | 庆·P·阮;马修·H·弗雷;张海燕;张俊颖 | 申请(专利权)人: | 3M创新有限公司 |
主分类号: | C23C28/00 | 分类号: | C23C28/00;C23C18/16 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 郇春艳;郭国清 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 公开了一种选择性地和化学地将金属沉积在具有金属图案化的纳米结构表面上的方法。所述方法包括提供具有图案化的纳米结构表面的工具,所述图案化的纳米结构表面具有的表面区域具有纳米结构化表面,将所述工具图案化的纳米结构表面复制到基底上以形成基底图案化的纳米结构表面,在所述基底图案化的纳米结构表面上设置金属层形成金属图案化的纳米结构表面区域,在所述金属图案化的纳米结构表面区域上形成自组装单层,将所述自组装单层暴露于包含沉积金属的化学镀溶液中,然后将所述沉积金属选择性地化学沉积在具有金属纳米结构化表面的表面区域上。本发明还公开了由该方法形成的制品。 | ||
搜索关键词: | 使用 复制 图案 化外 组装 单层 加工 | ||
【主权项】:
1.一种方法,所述方法包括:提供一种具有图案化的纳米结构表面的工具,所述表面具有包括由电镀方法形成的纳米级外形的纳米结构化表面区域;将所述工具的图案化的纳米结构表面复制到基底上以形成具有基底纳米结构化表面区域的基底图案化的纳米结构表面;将金属层设置在所述基底图案化的纳米结构表面上以形成具有金属纳米结构化表面区域的金属图案化的纳米结构表面;在包括所述金属纳米结构化表面区域的所述金属图案化的纳米结构表面上形成自组装单层;将所述自组装单层暴露于包含沉积金属的化学镀溶液;和将所述沉积金属选择性地化学沉积在所述金属纳米结构化表面区域上。
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