[发明专利]通过浸没干涉仪显微镜的断层成像无效
| 申请号： | 200680029559.0 | 申请日： | 2006-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN101243298A | 公开（公告）日： | 2008-08-13 |
| 发明（设计）人： | 阿诺·杜波依斯;阿尔伯特－克洛德·博卡拉 | 申请（专利权）人： | 国立科学研究中心 |
| 主分类号： | G01B9/02 | 分类号： | G01B9/02 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 章社杲;李丙林 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于待成像物体的断层成像装置，该装置包括：具有与待成像物体层的厚度基本相同的相干长度的光源；干涉测量成像系统，该系统至少包括物镜，参照镜以及光束分离装置，其特征在于，所述干涉测量系统被设置成使得所述物镜确定在待分析的物体层处的第一聚焦平面以及在所述参照镜处的第二聚焦平面，所述干涉测量成像系统包括至少一个定位于该第二聚焦平面和分离装置之间的第一补偿介质，选择所述补偿介质的厚度和光学指数，使得在所述第一聚焦平面和所述分离装置之间的来自所述光源的光束的光程与在所述第二聚焦平面和所述分离装置之间的光束的光程基本相同，并且使得在所述第一聚焦平面和所述分离装置之间的色散与在所述第二聚焦平面和所述分离装置之间的光束的色散基本相同。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 浸没 干涉仪 显微镜 断层 成像 | ||
【主权项】：
1.一种用于待成像物体的断层成像的装置，包括：具有与待成像物体层的厚度基本相同的相干长度的光源，以及干涉测量成像系统，所述系统至少包括物镜、参照镜(1)以及光束分离装置(2)，其特征在于，所述干涉测量系统被设置成使得所述物镜确定在待分析的物体层处的第一聚焦平面以及在所述参照镜处的第二聚焦平面，所述干涉测量成像系统包括至少一个定位于所述第二聚焦平面和所述分离装置之间的第一补偿介质(3a，3b)，选择所述补偿介质的厚度和光学指数，使得在所述第一聚焦平面和所述分离装置之间的来自所述光源的光束的光程与在所述第二聚焦平面和所述分离装置之间的所述光束的光程基本相同，并且使得在所述第一聚焦平面和所述分离装置之间的色散与在所述第二聚焦平面和所述分离装置之间的光束的色散基本相同。
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