[发明专利]含低共熔混合物的电解质及利用其的电化学装置无效
| 申请号： | 200680030282.3 | 申请日： | 2006-08-18 |
| 公开（公告）号： | CN101243134A | 公开（公告）日： | 2008-08-13 |
| 发明（设计）人： | 吴宰丞;李秉培;朴载德;朴志源 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | C08L33/02 | 分类号： | C08L33/02 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王海川;樊卫民 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 公开了一种含低共熔混合物的电解质，所述低共熔混合物由(a)含酰胺基的化合物和(b)无锂的可离子化盐形成。还公开了包括此电解质的电化学装置。由于低共熔混合物中含有的金属阳离子的优良传导性、低共熔混合物的宽的电化学窗以及低粘度，从而使该电解质改进了电化学装置的品质。此外，由于低共熔混合物具有优良的热与化学稳定性，从而可解决电解质的蒸发、耗尽与着火的问题，从而使装置构成元件与电解质间的副反应最小化，并改进了电化学装置的安全性。 | ||
| 搜索关键词： | 含低共熔 混合物 电解质 利用 电化学 装置 | ||
【主权项】：
1.一种含低共熔混合物的电解质，该低共熔混合物由如下形成：(a)含酰胺基的化合物；以及(b)无锂的可离子化盐。
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