[发明专利]多孔性高分子膜及其制造方法以及该制造中所使用的压模的制造方法无效
| 申请号： | 200680030973.3 | 申请日： | 2006-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN101248219A | 公开（公告）日： | 2008-08-20 |
| 发明（设计）人： | 益田秀树;柳下崇;西尾和之 | 申请（专利权）人： | 财团法人神奈川科学技术研究院 |
| 主分类号： | C25D1/00 | 分类号： | C25D1/00;B29C59/02;B82B3/00;C25D11/04;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 通过在具有多孔性的表面结构的阳极氧化多孔氧化铝的细孔内填充物质，溶解除去前述阳极氧化多孔氧化铝来制造由前述物质形成且具有前述表面结构的反转结构的压模，通过将前述压模的前述反转结构转印到高分子来制造具有前述表面结构的多孔性高分子膜。可不经过复杂的工序而大面积制造多孔性高分子膜，该多孔性高分子膜具有尺寸均匀的细孔与膜表面垂直的表面结构。 | ||
| 搜索关键词： | 多孔 高分子 及其 制造 方法 以及 使用 | ||
【主权项】：
1.多孔性高分子膜的制造方法，在具有多孔性的表面结构的阳极氧化多孔氧化铝的细孔内填充物质，通过溶解除去所述阳极氧化多孔氧化铝来制造由所述物质构成且具有所述表面结构的反转结构的压模，通过将所述压模的所述反转结构转印到高分子来制造具有所述表面结构的高分子膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于财团法人神奈川科学技术研究院，未经财团法人神奈川科学技术研究院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200680030973.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
