[发明专利]光学活性α-羟基羧酸的制造方法无效

专利信息
申请号: 200680031900.6 申请日: 2006-09-01
公开(公告)号: CN101253271A 公开(公告)日: 2008-08-27
发明(设计)人: 坂本惠司;北伸二;森井亮博 申请(专利权)人: 第一精密化学株式会社
主分类号: C12P41/00 分类号: C12P41/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 丁香兰;赵冬梅
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及光学活性α-羟基羧酸的制造方法,所述光学活性α-羟基羧酸为右述的通式(I)所示的化合物,式(I)中,A表示5元或6元的环状化合物的残基,*表示具有S型或R型中的任意立体构型的碳原子,X表示氢原子或碳原子数为1~4的烷基,其中,所述方法包括将对应的酯化合物(非光学纯)用赖氏细菌属(Leifsonia)、柱孢属(Cylindrocarpon)、轮枝孢属(Verticillium)等的微生物的菌体或者培养物、其处理物或其提取物进行处理的步骤。
搜索关键词: 光学 活性 羟基 羧酸 制造 方法
【主权项】:
1、下述通式(I)所示的化合物的制造方法,式(I)中,A表示5元或6元的环状化合物的残基,该环状化合物选自芳香族化合物、部分饱和环状化合物或饱和环状化合物,成环原子可以具有1个以上的杂原子,环上可以具有取代基,该取代基是选自由卤原子、可以具有取代基的碳原子数为1~4的烷基、可以具有取代基的碳原子数为1~4的烷氧基以及可以被保护基所保护的羟基、可以被保护基所保护的氨基、硝基组成的组中的1个或2个以上的取代基,在存在有2个以上的取代基的情况下,所述2个以上的取代基相同或不同,并且在存在有2个以上的取代基的情况下,所述2个以上的取代基可以键合形成环;X表示氢原子或碳原子数为1~4的烷基;*表示具有S型或R型中的任意立体构型的碳原子;其中,所述方法包括利用选自由属于赖氏细菌属、柱孢属、轮枝孢属、分枝杆菌属、红球菌属、外瓶霉属、红酵母属、芽孢杆菌属、短波单胞菌属、假单胞菌属、根瘤菌属、曲霉属、白僵菌属、青霉菌属、诺卡氏菌属、戈登氏菌属、喙枝孢属、枝氯霉属以及产卟啉杆菌属的微生物组成的组中的微生物的菌体或者培养物、其处理物或其提取物对下述通式(II)所示的化合物进行处理的步骤,通式(II)中,A和X与上述的定义相同,R表示碳原子数为1~4的烷基,该烷基可以被芳基所取代;从**所示的碳原子方面出发,通式(II)所示的化合物为非光学纯。
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