[发明专利]用于纳米压印的膜形成组合物以及图案形成方法有效
| 申请号： | 200680032411.2 | 申请日： | 2006-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN101258018A | 公开（公告）日： | 2008-09-03 |
| 发明（设计）人： | 坂本好谦;山下直纪;石川清 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | B29C59/02 | 分类号： | B29C59/02;H01L21/027;G03F7/075;C09D183/00 |
| 代理公司： | 深圳创友专利商标代理有限公司 | 代理人： | 江耀纯 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种具有良好的对氧气的抗蚀刻性、同时可以防止转印图案的剥离、并且解决了在基板上的保持时间的问题、转印性也良好的用于纳米压印的膜形成组合物以及感光性光阻、纳米结构体、使用它们的图案形成方法以及用以实现所述图案形成方法的程序。本发明的用于纳米压印的膜形成组合物含有高分子硅化合物，所述高分子硅化合物具备产生光固化反应的功能。高分子硅化合物优选具有感应电磁波而断裂的官能团，且通过电磁波照射而产生固化反应的高分子硅化合物，更优选硅氧烷类高分子化合物、碳化硅类高分子化合物、聚硅烷类高分子化合物以及硅氮烷类高分子化合物中的一种或者它们的任意混合物。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 纳米 压印 形成 组合 以及 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于纳米压印的膜形成组合物，其特征在于：其含有具备产生光固化反应的功能的高分子硅化合物。
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