[发明专利]磁记录介质以及磁记录和再现装置有效
| 申请号： | 200680032934.7 | 申请日： | 2006-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN101258542A | 公开（公告）日： | 2008-09-03 |
| 发明（设计）人： | 清水谦治 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/667 | 分类号： | G11B5/667;G11B5/738 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 杨晓光;李峥 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目标是提供磁记录介质以及磁记录和再现装置，通过优化构成软磁性衬层的软磁性层材料和衬层材料，能够记录和再现高密度数据。在本发明中，垂直磁记录介质A在非磁性基底1上至少有软磁性衬层a、衬层5、中间层6和垂直磁记录层。构成软磁性衬层a的软磁性层2、4具有非晶结构，并由饱和磁通密度Bs大于1.1T的CoAl合金或CoFeAl合金构成。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 以及 再现 装置 | ||
【主权项】：
1.一种垂直磁记录介质，包括：非磁性基底；以及在所述非磁性基底上的软磁性衬层、衬层、中间层以及垂直磁记录层，其中，所述软磁性衬层包括具有非晶结构并由饱和磁通密度Bs大于1.1T的CoAl合金构成的软磁性层。
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