[发明专利]用于非破坏性地确定薄膜中元素的分布轮廓的方法和系统无效
| 申请号： | 200680033273.X | 申请日： | 2006-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN101523171A | 公开（公告）日： | 2009-09-02 |
| 发明（设计）人： | P·德切科;B·许勒尔;D·里德;M·光;D·S·巴兰斯 | 申请（专利权）人： | 瑞沃瑞公司 |
| 主分类号： | G01J3/45 | 分类号： | G01J3/45 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 | 代理人： | 周建秋;王凤桐 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种确定薄膜中元素的分布轮廓的方法。所述方法包括激发沉积于第一薄膜中的元素的电子能量以获取与所述电子能量相关联的第一能谱，并从所述第一能谱中去除背景能谱。移除所述背景值产生经处理的能谱。所述方法进一步包括通过能与第一薄膜比较的薄膜中的元素的已知模拟分布轮廓来将所述经处理的能谱与模拟能谱相匹配。基于将所述经处理的能谱与从模拟能谱组中选出的模拟能谱相匹配来获取所述第一薄膜中的元素的分布轮廓。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 破坏性 确定 薄膜 元素 分布 轮廓 方法 系统 | ||
【主权项】：
1. 一种方法，该方法包括：获取与从样品薄膜中的一种或多种元素中激发出的电子能量相关联的第一能谱；获取经处理的能谱，所述经处理的能谱具有移除了背景能谱的所述第一能谱；最优化作为所述一种或多种元素的元素分布轮廓的函数的模拟能谱；利用最小化算法将所述经处理的能谱与所述模拟能谱相匹配；以及基于所述匹配和所述最小化来确定所述样品薄膜中的所述一种或多种元素的分布轮廓。
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