[发明专利]溅射靶、透明导电膜及透明电极有效
| 申请号： | 200680034283.5 | 申请日： | 2006-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN101268211A | 公开（公告）日： | 2008-09-17 |
| 发明（设计）人： | 矢野公规;井上一吉;田中信夫 | 申请（专利权）人： | 出光兴产株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C04B35/00;H01B5/14 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李贵亮 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于通过溅射法成膜透明导电膜的溅射靶，该透明导电膜可以适用于以液晶显示器为代表的显示器和触摸屏、太阳能电池等各种用途。即使削减铟含量，该溅射靶也具有优良的导电性、蚀刻性、耐热性等。本发明的溅射靶，其特征在于，含有铟、锡、锌、氧，包含六方晶层状化合物、尖晶石结构化合物及红绿柱石结构化合物，特别是用In/(In+Sn+Zn)表示的原子比在0.33～0.6的范围内，用Sn/(In+Sn+Zn)表示的原子比在0.05～0.15的范围内。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 透明 导电 电极 | ||
【主权项】：
1.一种溅射靶，其特征在于，含有铟、锡、锌、氧，包含六方晶层状化合物、尖晶石结构化合物及红绿柱石结构化合物。
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