[发明专利]高分子材料、由其得到的发泡体以及使用它们的研磨垫有效

专利信息
申请号: 200680034450.6 申请日: 2006-09-21
公开(公告)号: CN101268111A 公开(公告)日: 2008-09-17
发明(设计)人: 冈本知大;加藤晋哉;金田俊二;菊池博文 申请(专利权)人: 可乐丽股份有限公司
主分类号: C08G18/00 分类号: C08G18/00;B24B37/00;C08J9/12;C08L75/00;H01L21/304
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 吴娟;李平英
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的课题在于提供可用作可实现被研磨面的平坦性和提高平坦化效率、且划伤发生少的研磨垫的高分子材料。本发明是通过在用50℃的水饱和溶胀后在50℃下的拉伸弹性模量为130-800MPa,50℃下的损耗角正切为0.2以下,与水的接触角为80°以下的高分子材料来解决上述课题的。
搜索关键词: 高分子材料 得到 发泡 以及 使用 它们 研磨
【主权项】:
1.高分子材料,该高分子材料用50℃的水饱和溶胀后在50℃下的拉伸弹性模量为130-800MPa,50℃的损耗角正切为0.2以下,与水的接触角为80°以下。
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