[发明专利]具有纳米围壁的像素化光学构件有效

专利信息
申请号: 200680034686.X 申请日: 2006-07-13
公开(公告)号: CN101268409A 公开(公告)日: 2008-09-17
发明(设计)人: 热罗姆·巴莱;克里斯蒂安·博韦;让-保罗·卡诺 申请(专利权)人: 埃西勒国际通用光学公司
主分类号: G02C7/08 分类号: G02C7/08;G02C7/10;G02F1/1333;G02F1/1339
代理公司: 北京市金杜律师事务所 代理人: 楼仙英
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 光学构件,其包括至少一个透明胞室网状结构,所述胞室平行于构件表面并置并且被围壁隔开,每个胞室被密封并且包括至少一种具有光学特性的物质,并且整个或部分所述构件表面包括厚度小于100纳米的围壁。因此,光学构件被胞室网状结构像素化,所述胞室被围壁隔开,所述围壁自身可被像素化。该光学构件特别用于制作如眼用镜片这样的光学元件。
搜索关键词: 具有 纳米 像素 光学 构件
【主权项】:
1.透明光学构件,包括至少一个透明胞室网状结构,所述胞室平行于构件表面并置并且被围壁隔开,每个胞室被密封且包括至少一种具有光学特性的物质,并且整个或部分所述构件表面包括厚度小于100纳米的围壁。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于埃西勒国际通用光学公司,未经埃西勒国际通用光学公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200680034686.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top