[发明专利]光导装置无效
| 申请号： | 200680036110.7 | 申请日： | 2006-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN101278218A | 公开（公告）日： | 2008-10-01 |
| 发明（设计）人： | 中根健智 | 申请（专利权）人： | 三美电机株式会社 |
| 主分类号： | G02B6/122 | 分类号： | G02B6/122 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 金春实 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种能够改善端口损失不均匀性的光导装置。所述光导装置在硅基板(103)上具有芯图案(101)；沿芯图案(101)分布的被覆带(150)；占据被覆带(150)外侧领域的高折射率领域(160)；漏光传播阻止带(170)。光弯曲传播时其弯曲侧的平缓部的能量被高折射率领域(160)所吸收，光的强度中心向芯图案(101)的中心侧偏移，这样，光的弯曲就被补正。漏光传播阻止带(170)阻止从分支点漏出的光传播至芯部，防止漏出的光与分支侧芯部内传播的光发生耦合。因此，在八分支光导装置中，可以改善端口损失的不均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 | ||
【主权项】：
1、一种光导装置，其在基板上具有由芯部和覆盖所述芯部的被覆部所组成的光导路，其特征在于，所述被覆部为带状，并沿所述芯部覆盖所述芯部，所述被覆部的外侧具有高折射率区域，所述高折射率区域具有比所述被覆部的折射率高的折射率。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三美电机株式会社，未经三美电机株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200680036110.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
