[发明专利]连续腔物质限制室及其使用方法无效

专利信息
申请号: 200680036669.X 申请日: 2006-08-10
公开(公告)号: CN101278092A 公开(公告)日: 2008-10-01
发明(设计)人: E·A·克努森;J·F·多兰;R·J·雷斯;T·P·本德尔;V·N·洛克汉德;D·D·达斯特;E·J·克劳斯 申请(专利权)人: 新技术资源公司
主分类号: E02D29/02 分类号: E02D29/02
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 蔡洪贵
地址: 美国明*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及可以应用于保持壁和土壤保持系统的物质限制室,所述物质限制室具有天然土制外观或其它美观设计、并抵抗环境引起的损坏和磨损。物质限制室一般重量轻,并包括与位于上方和下方的限制室至少部分对齐的连续腔,从而允许填充物在相邻室之间混合。物质限制室能接收和保持任何类型的填充物。填充物为由这些物质限制室构成的保持壁提供重量、稳定性和安全性。
搜索关键词: 连续 物质 限制 及其 使用方法
【主权项】:
1.一种物质限制室,包括:框架,所述框架包括通过一个或多个固定机构连接的两个或多个面板;前表面,所述前表面连接到框架并具有模制和/或加工的纹理和色彩,以形成土制外观或其它美观设计;封闭件,所述封闭件通过一个或多个固定机构可操作地连接到所述框架以形成腔;以及敞开顶表面,所述敞开顶表面不包括顶面板或包括部分顶面板。
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