[发明专利]皮炎治疗剂无效
申请号: | 200680036733.4 | 申请日: | 2006-10-05 |
公开(公告)号: | CN101277697A | 公开(公告)日: | 2008-10-01 |
发明(设计)人: | 直敦子;菊地松夫 | 申请(专利权)人: | 田边三菱制药株式会社 |
主分类号: | A61K31/4709 | 分类号: | A61K31/4709;A61K31/4725;A61K31/502;A61K31/5377;A61P17/00;A61P17/06;A61P17/08;A61P29/00;A61P37/00;A61P37/08;A61P43/00;C07D401/04;C07D401/14 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种外用皮炎治疗剂,其以式[I]所示的化合物或者其药理上可允许的盐为有效成分而形成,式中,R1和R2表示低级烷氧基,=X-表示式所示的基团或式=N-所示的基团,环A表示具有选自羟基、氧基、低级烷氧基、二低级烷氨基苯基、哌啶子基低级烷氧基、吗啉基低级烷氧基、低级环烷基氨基低级烷氨基、吡啶基以及吗啉基中的1~4个取代基的饱和或不饱和二环式含氮杂环基,表示单键或双键。 | ||
搜索关键词: | 皮炎 治疗 | ||
【主权项】:
1.外用皮炎治疗剂,其以下式[I]所示的吡啶化合物或者其药理上可允许的盐为有效成分而形成,式中,R1和R2表示低级烷氧基,=X-表示式所示的基团或式=N-所示的基团,环A表示具有选自羟基、氧基、低级烷氧基、二低级烷氨基苯基、哌啶子基低级烷氧基、吗啉基低级烷氧基、低级环烷基氨基低级烷氨基、吡啶基以及吗啉基中的1~4个取代基的饱和或不饱和二环式含氮杂环基,表示单键或双键。
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