[发明专利]等离子体反应装置及采用该装置的等离子体反应方法有效
申请号: | 200680037559.5 | 申请日: | 2006-10-09 |
公开(公告)号: | CN101282782A | 公开(公告)日: | 2008-10-08 |
发明(设计)人: | 李大勋;金冠泰;宋永焄;车旻锡;李载玉;金释俊 | 申请(专利权)人: | 韩国机械研究院 |
主分类号: | B01J19/08 | 分类号: | B01J19/08 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 王琼先 |
地址: | 韩国大*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明涉及一种等离子体反应装置及采用该装置的等离子体反应方法。更具体地,本发明涉及一种应用于通过产生旋转弧等离子体并利用所产生的旋转弧等离子体进行燃料重整、持久性气体化学处理的等离子体反应装置,用于通过吸留催化剂降低NOx的装置,及采用该装置的等离子体反应方法。为此,使反应原料流过成旋涡结构的流入孔,使得原料形成旋转流动并前进。因而,原料在有限容积的等离子体反应空间中充分反应,并更快速地完成高温等离子体反应。此外,通过随着炉子上部宽度的扩大而形成的加宽区域腔室使等离子体反应区在排料之前得到扩大,并且所产生的等离子体得到扩大并随着与电极间隔成预定距离的尖端在扩大端的形成而得到保留。因而,本发明涉及一种等离子体反应装置及采用该装置的等离子体反应方法,持久性气体的等离子体反应方法以及通过吸留催化剂降低NOx的装置,所有这些方案都能够消除等离子体反应区的不连续。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 反应 装置 采用 方法 | ||
【主权项】:
1.一种等离子体反应装置,包括:炉子(10),其为中空的并包括在炉子(10)的上部位置形成的排料开口(11),该排料开口(11)用于排出等离子体反应物;原料流入管(20),其可操作地与炉子(10)的下部相连使得等离子体反应所需的原料被供给到炉子(10)内,并且其包括位于炉子(10)内并被形成为与炉子(10)的外圆周表面的法向倾斜成预定角度使得供给的原料在炉子(10)内形成旋转流动并前进的进料开口;以及电极(30),其被放置在炉子(10)的底部并与炉子(10)的内壁间隔成预定距离,从而产生被供给到炉子(10)内的原料等离子体反应所需的放电电压;并且其中炉子(10)包括位于电极(30)上方且宽度扩大的区段,从而形成加宽区域腔室(17)以在供给到炉子(10)内的原料进行等离子体反应时扩大等离子体反应区,使其暂时保留在加宽区域腔室(17)中。
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