[发明专利]照射消毒的方法、装置和系统有效
| 申请号： | 200680039638.X | 申请日： | 2006-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN101341095A | 公开（公告）日： | 2009-01-07 |
| 发明（设计）人： | U·利维;Z·特里贝尔斯基;Y·罗森伯格 | 申请（专利权）人： | 安特兰德水技术有限公司 |
| 主分类号： | C02F1/32 | 分类号： | C02F1/32 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 董敏 |
| 地址： | 以色列贝*** | 国省代码： | 以色列;IL |
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| 摘要： | 一种用于消毒流动介质(113)的装置(100)，包括具有用于接收介质(113)的入口(116)和用于排放介质(113)的出口(118)的导管(106)，用于基于悬浮在介质(113)的实体沿从入口(116)到出口(118)的多条预期流动路径(112)的流速预期空间分布在入口(116)处调整介质(113)流动的流动适配器(104)，以及至少一个照射源(102)，用于通过具有基于自定义光通量空间分布的至少一部分预期流速分布的光照射导管(106)。 | ||
| 搜索关键词： | 照射 消毒 方法 装置 系统 | ||
【主权项】：
1.一种设备，包括：用于输送要消毒的流动介质的导管，所述导管具有接收所述介质的入口和排放所述介质的出口；一流动适配器，其配置为根据悬浮于所述介质中的实体沿从所述入口到所述出口的多个多个预定流动路径流动速度的预期空间分布来调整所述入口处的所述介质的流动；和至少一个照射源，其利用具有自定义光通量空间分布的光来照射所述导管，所述自定义光通量空间分布至少部分地以流动速度的所述预期分布为基础。
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