[发明专利]用于进行MRI的非圆柱形RF线圈无效
申请号: | 200680039923.1 | 申请日: | 2006-10-03 |
公开(公告)号: | CN101297211A | 公开(公告)日: | 2008-10-29 |
发明(设计)人: | J·魏岑埃克;C·施罗德 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | G01R33/3415 | 分类号: | G01R33/3415 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 宋献涛;王英 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 射频线圈包括非圆柱形共形表面(62,76),该非圆柱形共形表面与磁共振对象基本一致。多个导线环(60,71,72,73,74)布置在该非圆柱形共形表面之中或之上。所述多个导线环用于对Bi频率的激励做出反应,而在磁共振对象中产生基本均匀的Bi场。此外可选地,将多个负载补偿导线环(90)布置在补偿式非圆柱形共形表面(62)之中或之上,该补偿式非圆柱形共形表面与磁共振对象基本一致。所述多个负载补偿导线环用于产生非均匀Bi场,以便对该磁共振对象造成的负载Bi非均匀性进行补偿。此外,该线圈还包括开关模块,用于将该线圈在第一工作模式(例如,筒式发射模式)和第二工作模式(例如,相控阵列接收模式)之间切换。 | ||
搜索关键词: | 用于 进行 mri 圆柱形 rf 线圈 | ||
【主权项】:
1、一种射频线圈,包括:非圆柱形共形表面(62、76),所述非圆柱形共形表面与磁共振对象基本一致;多个导线环(60、71、72、73、74),布置在所述刚性的非圆柱形共形表面之中或之上,所述多个导线环用于对B1频率的激励做出反应而在所述磁共振对象中产生基本均匀的B1场。
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