[发明专利]单层膜及由其构成的亲水性材料有效
申请号: | 200680042823.4 | 申请日: | 2006-11-27 |
公开(公告)号: | CN101309760A | 公开(公告)日: | 2008-11-19 |
发明(设计)人: | 冈崎光树;关亮一;加藤高藏;高木正利 | 申请(专利权)人: | 三井化学株式会社 |
主分类号: | B05D5/00 | 分类号: | B05D5/00;B05D7/24;B32B27/30;C08F20/26;C08F20/38;C08F30/02;C09D133/04;C09D143/02;C09K3/00;C09K3/16;C09K3/18 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 | 代理人: | 杨宏军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及一种单层膜,所述单层膜具有选自磺酸基、羧基及磷酸基中的至少1种阴离子性亲水基团,该单层膜的表面中的阴离子浓度(Sa)和深部中的阴离子浓度(Da)的阴离子浓度比(Sa/Da)在1.1以上。此单层膜是聚合下述组合物得到的水接触角在30°以下的共聚物,所述组合物含有通式(1)表示的化合物(I)和1分子内具有2个以上(甲基)丙烯酰基的化合物(II),其中,化合物(I)和化合物(II)换算成摩尔比在15∶1~1∶30的范围内。上述单层膜具有高亲水性和表面硬度,防雾性、防污性及防带电性优异,作为防雾材料、防污材料及防带电材料、层合体有用。[X]s[M1]l[M2]m (1) | ||
搜索关键词: | 单层 构成 亲水性 材料 | ||
【主权项】:
1、一种单层膜,所述单层膜具有选自磺酸基、羧基及磷酸基中的至少1种阴离子性亲水基团,其特征在于,表面中的阴离子浓度(Sa)和深部中的阴离子浓度(Da)的阴离子浓度比(Sa/Da)为1.1以上。
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