[发明专利]在可重写光学记录载体上记录数据的设备和方法无效
申请号: | 200680044551.1 | 申请日: | 2006-11-20 |
公开(公告)号: | CN101317222A | 公开(公告)日: | 2008-12-03 |
发明(设计)人: | V·R·范加拉;A·贾亚拉曼 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | G11B7/006 | 分类号: | G11B7/006 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 李静岚;刘红 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 本发明涉及一种用于在可重写光学记录载体(11)上记录数据的记录设备。该设备包括记录装置(21,22,25),其用于通过用辐射束(24)照射所述记录载体而在记录操作期间在所述记录载体上形成标记,所述标记表示所述数据。此外,该设备包括用于控制所述记录操作的控制装置(20)和射束控制装置(31),该射束控制装置用于参照最优写入功率来控制辐射束的写入功率,这是通过对于后续写入循环在围绕所述最优写入功率的预定写入功率范围内改变写入功率而实现的,其中每一个写入循环包括至少一次记录操作。特别在诸如文件系统区域的管理区域内,通过写入功率的变化可以提高覆写质量。 | ||
搜索关键词: | 重写 光学 记录 载体 数据 设备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种用于在可重写光学记录载体(11)上记录数据的记录设备,该设备包括:记录装置(21,22,25),其用于通过用辐射束(24)照射所述记录载体而在记录操作期间在所述记录载体上形成标记,所述标记表示数据;以及控制装置(20),其用于控制所述记录操作,所述控制装置包括:最优功率控制装置(32),其用于根据所述记录载体的特性来确定辐射束的最优写入功率;以及射束控制装置(31),其用于参照最优写入功率来控制所述辐射束的写入功率,这是通过对于后续写入循环在围绕所述最优写入功率的预定写入功率范围内改变写入功率而实现的,其中每一个写入循环包括至少一次记录操作。
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