[发明专利]具有受控剥离力的有机硅剥离组合物和涂覆有所述组合物的有机硅剥离涂覆膜无效

专利信息
申请号: 200680046057.9 申请日: 2006-11-20
公开(公告)号: CN101326251A 公开(公告)日: 2008-12-17
发明(设计)人: 尹宗郁;李政祐;李文馥;金相弼 申请(专利权)人: 东丽世韩株式会社
主分类号: C09D183/04 分类号: C09D183/04;C09D5/20;C08G77/04;C08L83/04;C08J5/18;C08J7/04;B32B27/36
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 樊卫民;郭国清
地址: 韩国庆*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明涉及一种其剥离力能够被控制的有机硅剥离组合物以及一种涂覆有所述组合物的有机硅剥离膜。利用本发明的组合物和涂覆有所述组合物的剥离膜,能得到具有给定值的可再现剥离力,也能在不排放有害溶剂的情况下制造均匀涂覆的剥离膜。由此制造的有机硅剥离膜能够具有可控制的剥离力,以及与粘性试剂相容的稳定的剥离力特性。为了这个目的,本发明的特征在于,本发明的其剥离力能够被控制的有机硅剥离组合物为水分散型有机硅剥离涂覆组合物,其包含有机聚硅氧烷、有机聚硅氧烷树脂、有机氢聚硅氧烷和铂螯合物催化剂,并满足下面的剥离力数学式:剥离力=aX+b,其中a=61.62±3.98,b=16.43±3.01,X=所述剥离涂覆组合物中有机聚硅氧烷树脂的含量(%)。
搜索关键词: 具有 受控 剥离 有机硅 组合 有所 涂覆膜
【主权项】:
1.一种具有受控剥离力的水分散型有机硅剥离组合物,其特征在于,其包含有机聚硅氧烷、有机聚硅氧烷树脂、有机氢聚硅氧烷和铂螯合物催化剂,并满足下面关于其剥离力的数学式:[数学式1]剥离力=aX+b其中a=61.62±3.98,b=16.43±3.01,X=所述有机硅剥离组合物中有机聚硅氧烷树脂的含量(%)。
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