[发明专利]工件处理系统和等离子体产生装置

摘要

本发明提供一种工件处理系统(S)，其设有：等离子体产生单元(PU)，所述等离子体产生单元(PU)包括用于产生2.45GHz微波的微波产生器(20)、用于使微波进行传播的波导(10)和安装于面对工件(W)的波导(13)表面上的等离子体产生器(30)；以及工件输送装置(C)，其用于输送工件(W)使其通过等离子体产生器(30)。等离子体产生器(30)包括多个以阵列布置的等离子体产生喷嘴(31)，所述等离子体产生喷嘴用于接收微波、基于接收电能产生等离子体转化气体以及释放产生的气体。当工件(W)由工件输送装置(C)输送时，该等离子体转化气体被吹到经过等离子体产生器(30)的工件(W)上。由此既可以连续地对多个工件进行等离子处理，又可以有效地对大面积的工件进行等离子处理。

主权项

1.一种工件处理系统，用于在输送工件的同时，向工件照射等离子体而对所述工件实施指定的处理，其特征在于包括：等离子体产生装置，其具备，用于产生微波的微波产生器；用于使微波传播的波导；以及具有多个等离子体产生喷嘴的等离子体产生器，所述多个等离子体产生喷嘴用于接收微波、基于所接收的微波能量产生等离子体转化气体并且释放所产生的气体，而且，所述多个等离子体产生喷嘴以排列的方式安装在所述波导上；工件输送装置，用于输送所述工件让其通过所述等离子体产生器。