[发明专利]具有沟槽绝缘接触端子的减薄的图像传感器无效

专利信息
申请号: 200680051588.7 申请日: 2006-11-06
公开(公告)号: CN101366119A 公开(公告)日: 2009-02-11
发明(设计)人: P·布朗夏尔 申请(专利权)人: E2V半导体公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L21/768;H01L31/0224
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 陈松涛;王英
地址: 法国圣*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 发明涉及减薄的衬底图像传感器,尤其是彩色图像传感器的制造。从硅衬底的正面实施制造步骤,然后将所述正面转移到转移衬底上,并减薄所述硅,然后通过背面制造连接端子。在连接端子的位置穿过减薄的硅形成多个局部化接触孔,所述孔暴露了在正面处理步骤期间形成的第一导电层(24);在背面上沉积与所述硅接触的铝(42),所述铝渗透到开口内,并与所述第一层接触;对所述铝进行蚀刻,以限定所述连接端子;最后,穿过所述硅层的整个厚度打开外围沟槽,该沟槽完全包围所述连接端子。
搜索关键词: 具有 沟槽 绝缘 接触 端子 图像传感器
【主权项】:
1.一种具有减薄的硅衬底的图像传感器的制造方法,其包括从硅衬底的正面实施的制造步骤,之后将所述正面转移到转移衬底上,之后将所述硅衬底减薄到几微米的厚度,以及最后在所述减薄的硅衬底的背面实施的制造步骤,该方法的特征在于,从所述背面实施的制造步骤包括:-在为传感器的外部连接端子的制造保留的表面区域上,穿过所述减薄的衬底(12)蚀刻至少一个局部化接触开口(40),所述开口局部暴露第一导电层(24),该第一导电层(24)是在从所述正面实施的制造步骤的过程中形成的;-在所述背面上沉积与所述开口中的硅接触的第二导电层(42),所述第二层与所述第一层(24)接触;-蚀刻所述第二层,以限定连接端子;-穿过所述减薄的硅衬底的整个厚度打开外围沟槽(48),使其抵达位于该衬底之下的绝缘层(22),该沟槽完全包围所述连接端子,并且所述沟槽的底部整个由所述绝缘层形成,因而形成了由减薄的硅构成的岛,该岛被所述连接端子覆盖,并且其通过所述沟槽与所述减薄的硅的其余部分绝缘。
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