[发明专利]具有沟槽绝缘接触端子的减薄的图像传感器无效
申请号: | 200680051588.7 | 申请日: | 2006-11-06 |
公开(公告)号: | CN101366119A | 公开(公告)日: | 2009-02-11 |
发明(设计)人: | P·布朗夏尔 | 申请(专利权)人: | E2V半导体公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146;H01L21/768;H01L31/0224 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 陈松涛;王英 |
地址: | 法国圣*** | 国省代码: | 法国;FR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及减薄的衬底图像传感器,尤其是彩色图像传感器的制造。从硅衬底的正面实施制造步骤,然后将所述正面转移到转移衬底上,并减薄所述硅,然后通过背面制造连接端子。在连接端子的位置穿过减薄的硅形成多个局部化接触孔,所述孔暴露了在正面处理步骤期间形成的第一导电层(24);在背面上沉积与所述硅接触的铝(42),所述铝渗透到开口内,并与所述第一层接触;对所述铝进行蚀刻,以限定所述连接端子;最后,穿过所述硅层的整个厚度打开外围沟槽,该沟槽完全包围所述连接端子。 | ||
搜索关键词: | 具有 沟槽 绝缘 接触 端子 图像传感器 | ||
【主权项】:
1.一种具有减薄的硅衬底的图像传感器的制造方法,其包括从硅衬底的正面实施的制造步骤,之后将所述正面转移到转移衬底上,之后将所述硅衬底减薄到几微米的厚度,以及最后在所述减薄的硅衬底的背面实施的制造步骤,该方法的特征在于,从所述背面实施的制造步骤包括:-在为传感器的外部连接端子的制造保留的表面区域上,穿过所述减薄的衬底(12)蚀刻至少一个局部化接触开口(40),所述开口局部暴露第一导电层(24),该第一导电层(24)是在从所述正面实施的制造步骤的过程中形成的;-在所述背面上沉积与所述开口中的硅接触的第二导电层(42),所述第二层与所述第一层(24)接触;-蚀刻所述第二层,以限定连接端子;-穿过所述减薄的硅衬底的整个厚度打开外围沟槽(48),使其抵达位于该衬底之下的绝缘层(22),该沟槽完全包围所述连接端子,并且所述沟槽的底部整个由所述绝缘层形成,因而形成了由减薄的硅构成的岛,该岛被所述连接端子覆盖,并且其通过所述沟槽与所述减薄的硅的其余部分绝缘。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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