[发明专利]含水层的开发方法和设备无效

专利信息
申请号: 200680052720.6 申请日: 2006-12-15
公开(公告)号: CN101370991A 公开(公告)日: 2009-02-18
发明(设计)人: H·埃弗内;J-J·格朗纪尧姆 申请(专利权)人: 里昂水务法国公司
主分类号: E03B3/36 分类号: E03B3/36;E03B3/12
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 余全平
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 通过钻孔引水的含水层开发的方法,所述方法采用将水于使用前从所述含水层泵送出的至少两级连续的泵送(2、7),其特征在于,所述方法包括:初级泵送(2),其在自周围的地表水往所述含水层的回灌操作快速的区域中从所述含水层抽取水,并且所述水在所述区域受益于在下土层中的自然过滤和还原性条件下的自然净化,来自所述初级泵送的水被输送到人工补给池(5),所述人工补给池与外界空气接触并且不含有机试剂或者还原剂,以局部形成氧化条件,其中水渗向所述含水层并经受二次过滤;和次级泵送(7),其在水使用前在所述补给池附近进行。
搜索关键词: 含水层 开发 方法 设备
【主权项】:
1.通过钻孔引水的含水层开发的方法,所述方法采用将水于使用前从所述含水层泵送出的至少两级连续的泵送,其特征在于,所述方法包括:初级泵送(2),其在自周围的地表水往所述含水层的回灌操作快速的区域中从所述含水层抽取水,并且所述水在所述区域受益于在下土层中的自然过滤和还原性条件下的自然净化,来自所述初级泵送的水被输送到人工补给池(5),所述人工补给池与外界空气接触并且不含有机试剂或者还原剂以局部形成氧化条件,水在此渗向所述含水层并经受二次过滤;和次级泵送(7),其在水使用前在所述补给池附近进行。
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