[发明专利]相对曝光量测定装置以及方法有效
| 申请号： | 200680053800.3 | 申请日： | 2006-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN101401445A | 公开（公告）日： | 2009-04-01 |
| 发明（设计）人： | 今村元一;常本英治 | 申请（专利权）人： | 利达电子株式会社 |
| 主分类号： | H04N17/00 | 分类号： | H04N17/00;H04N5/235 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 金春实 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的方法包括：准备影像信号输出装置(4)的步骤；输入与用上述影像信号输出装置(4)拍摄的对象(1)的第一位置对应的影像信号的亮度成分的步骤；补正与上述第一位置对应的亮度成分的γ值的步骤；输入与用上述影像信号输出装置(4)拍摄的上述对象(1)的第二位置(71)对应的影像信号的亮度成分的步骤；补正与上述第二位置对应的亮度成分的γ值的步骤；计算与伽马补正后的第一位置对应的上述亮度成分和与伽马补正后的第二位置对应的上述亮度成分的比的步骤；以及显示上述比(72)的步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 相对 曝光 测定 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种装置(30)，包括：输入具有规定γ值的影像信号的部件(41)；以及将与包含在上述影像信号的内容中的第一位置对应的亮度成分的上述规定γ值返回为1的部件(43)，其中，上述部件(43)将与包含在上述影像信号的内容中的第一位置对应的亮度成分的上述规定γ值返回为1，上述部件(43)计算与伽马补正后的第一位置对应的上述亮度成分和与伽马补正后的第二位置对应的上述亮度成分的比。
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