[发明专利]硬质涂膜的脱膜方法有效
| 申请号： | 200680054191.3 | 申请日： | 2006-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN101426946A | 公开（公告）日： | 2009-05-06 |
| 发明（设计）人： | 羽生博之;福井康雄 | 申请（专利权）人： | OSG株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/02;B23P15/28;B23K15/00;B23K101/20 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李 帆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种将硬质涂膜脱膜的方法，如图(3)所示，在步骤S(2)中通过较大质量的氪离子束高效地蚀刻了硬质涂膜(30)后，在步骤S(3)中利用小质量的氩离子束缓慢地蚀刻硬质涂膜(30)，由此，可以将对工具基材(20)的影响(形状变化及尺寸变化)抑制在最小限度，且可以在短时间内进行脱膜处理。由于氪及氩均为惰性气体，故即使在工具基材(20)的表面露出的情况下，也完全没有对该工具基材(20)的化学侵蚀引起的表面的脆弱化，且即使在该工具基材(20)上再涂覆硬质涂膜(30)而再生硬质涂膜涂覆加工工具(12)，也可以以优良的附着强度涂覆硬质涂膜(30)。 | ||
| 搜索关键词： | 硬质 方法 | ||
【主权项】：
1、从硬质涂膜涂覆部件的本体上将硬质涂膜脱膜的方法，所述本体的表面上涂覆有元素周期表的IIIb族、IVa族、Va族或VIa族的金属的碳化物、氮化物、碳氮化物形成的硬质涂膜或它们的相互固溶体形成的硬质涂膜，其特征在于，通过对所述硬质涂膜照射离子束进行蚀刻，将该硬质涂膜从所述本体脱膜。
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