[发明专利]含五(二甲基氨基)二硅烷前体的化合物及其制备方法无效
| 申请号： | 200680054467.8 | 申请日： | 2006-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN101443338A | 公开（公告）日： | 2009-05-27 |
| 发明（设计）人： | C·迪萨拉 | 申请（专利权）人： | 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司 |
| 主分类号： | C07F7/10 | 分类号： | C07F7/10;C07F7/12;C23C16/40 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 林柏楠;刘金辉 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种通式(I)Si2(NMe2)5Y的五(二甲基氨基)二硅烷，其中Y选自Cl、H或氨基；本发明还涉及五(二甲基氨基)二硅烷的制备方法，及其用于生产SiN或SiON的门电极介电膜或防蚀刻介电膜的用途。 | ||
| 搜索关键词： | 甲基 氨基 硅烷 化合物 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种含五(二甲基氨基)二硅烷前体的化合物，所述前体具有下式：Si2(NMe2)5Y (I)其中Y选自Cl、H和氨基。
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