[发明专利]用于光学用途的挠性材料有效
| 申请号： | 200680055471.6 | 申请日： | 2006-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN101501533A | 公开（公告）日： | 2009-08-05 |
| 发明（设计）人： | 罗伯特·贝尔;吉尔贝特·古格勒;马尔克·波沙尔;斯特凡·许特尔 | 申请（专利权）人： | 依福德成像瑞士有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/00 | 分类号： | G02B1/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王 旭 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于在λ1至λ2的波长范围内的光学用途的挠性材料，λ1小于λ2。所述挠性材料由挠性载体和至少一个多层体组成，所述多层体包括多孔或纳米多孔层以及非多孔聚合物层，所述多孔或纳米多孔层具有低折射率并含有无机纳米粒子和至少一种粘合剂，所述非多孔聚合物层具有高折射率并与所述多孔或纳米多孔层直接接触。所公开的挠性材料的特征在于界面层的最大厚度等于波长λ2的0.2倍，所述界面层中折射率从一个值变化到另一个值，并且所述界面层位于所述多孔或纳米多孔层和与其直接接触的所述非多孔聚合物层之间。所述多孔或纳米多孔层与所述非多孔聚合物层的折射率差至少为0.20，λ1和λ2的典型值为200nm和2500nm。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光学 用途 材料 | ||
【主权项】：
1. 用于在λ1至λ2的波长范围内的光学用途的挠性材料，λ1小于λ2，所述挠性材料由挠性载体和至少一个多层体组成，所述多层体包括多孔或纳米多孔层以及非多孔聚合物层，所述多孔或纳米多孔层具有低折射率并含有无机纳米粒子和至少一种粘合剂，所述非多孔聚合物层具有高折射率并与所述多孔或纳米多孔层直接接触，其特征在于界面层的最大厚度最大等于波长λ2的0.2倍，所述界面层中折射率从一个值变化到另一个值，并且所述界面层位于直接接触的所述多孔或纳米多孔层和所述非多孔聚合物层之间。
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