[发明专利]场发射元件间隔物的制造方法及间隔物用的基材无效
| 申请号： | 200710000274.0 | 申请日： | 2007-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN101226863A | 公开（公告）日： | 2008-07-23 |
| 发明（设计）人： | 范明忠;罗吉宗 | 申请（专利权）人： | 大同股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J9/24 | 分类号： | H01J9/24;H01J9/00;G03F7/00;C03C6/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 周国城 |
| 地址： | 中国台湾台北*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明一种场发射元件间隔物的制造方法及间隔物用的基材，其制造方法的步骤包括：首先，提供一基板。然后，于该基板表面形成一胶体。接着，于该胶体表面形成一图案化的光阻层。随后，经由该图案化的光阻层以形成图案化的该胶体。再者，移除该图案化的光阻层并将该胶体硬化；最后，移除该基板。本发明更包括一种间隔物用的基材；本发明是降低制造成本并符合量产经济效益。 | ||
| 搜索关键词： | 发射 元件 间隔 制造 方法 基材 | ||
【主权项】：
1.一种场发射元件间隔物的制造方法，其特征在于步骤包括：提供一基板；于该基板表面形成一胶体；于该胶体表面形成一图案化的光阻层；经由该图案化的光阻层以形成图案化的该胶体；移除该图案化的光阻层并将该胶体硬化；以及移除该基板。
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