[发明专利]闪存的位线晶体管结构有效

专利信息
申请号: 200710000275.5 申请日: 2007-01-18
公开(公告)号: CN101009289A 公开(公告)日: 2007-08-01
发明(设计)人: 吴祝菁;易成名 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L23/522
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汤保平
地址: 台湾省新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一存储器阵列包括:一内埋扩散区、将电源供应至内埋扩散区的一第一源极线、将电源供应至内埋扩散区的一第二源极线、具有一第一通道宽度的一第一位线晶体管及具有一第二通道宽度的一第二位线晶体管。第一位线晶体管最接近第一源极线且电性耦接至一第一存储器单元。第一位线晶体管配置于第一源极线与第二源极线之间。第二二位线晶体管最接近第一位线晶体管且电性耦接至一第二存储器单元。第二位线晶体管配置于第一源极线与第二源极线之间,且较第一位线晶体管更远离第一源极线,其中第二通道宽度大于第一通道宽度。
搜索关键词: 闪存 晶体管 结构
【主权项】:
1.一种存储器阵列,其特征在于,其包含:一内埋扩散区;将电源供应至所述内埋扩散区的一第一源极线;将电源供应至所述内埋扩散区的一第二源极线,而所述第二源极线实质上与所述第一源极线平行且隔开;具有第一通道宽度的第一位线晶体管,而所述第一位线晶体管配置于所述第一源极线与所述第二源极线之间,且最接近所述第一源极线而电性耦接至一第一存储器单元;以及具有第二通道宽度的第二位线晶体管,而所述第二位线晶体管最接近于所述第一位线晶体管且电性耦接至第二存储器单元,所述第二位线晶体管配置于所述第一源极线与所述第二源极线之间且较所述第一位线晶体管更远离所述第一源极线,而所述第二通道宽度大于所述第一通道宽度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旺宏电子股份有限公司,未经旺宏电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710000275.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top