[发明专利]高分子厚膜电阻组成及其制作方法有效

专利信息
申请号: 200710000785.2 申请日: 2007-01-19
公开(公告)号: CN101226785A 公开(公告)日: 2008-07-23
发明(设计)人: 余曼君;刘淑芬;陈孟晖;金进兴 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: H01B1/20 分类号: H01B1/20;C08L63/00;H01B1/22;H01B1/24;H01C7/00;H01C17/065
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 代理人: 王允方;臧慧敏
地址: 中国*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种高分子厚膜电阻组成包含:一环氧树脂系统、至少一导电粉体、一高分子分散剂以及一硬化剂。该环氧树脂系统包含一多官能基的环氧树脂,其官能基大于等于4。该至少一导电粉体是具奈米粒径,其平均粒径介于10~100nm。经由混合及分散制程,所制作的高分子厚膜电阻材料的电阻变异性可大幅减小,且适合印刷电路板或IC基板的内埋式电阻组件的应用。
搜索关键词: 高分子 电阻 组成 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种高分子厚膜电阻组成,包含:一环氧树脂系统占总固体含量30~80%的重量百分比,包含一环氧树脂,其官能基大于等于4;至少一导电粉体占总固体粉体5-65%的重量百分比,其平均粒径介于10~100nm;一硬化剂占总固体粉体3-20%的重量百分比;以及一高分子分散剂占总固体粉体0.5~5%的重量百分比;藉由选用该环氧树脂系统,使该高分子厚膜电阻组成的玻璃转移温度至少150℃。
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