[发明专利]外部电极形成方法有效
申请号: | 200710001340.6 | 申请日: | 2007-01-10 |
公开(公告)号: | CN101004980A | 公开(公告)日: | 2007-07-25 |
发明(设计)人: | 小野寺晃;栗本哲;户泽洋司;大槻史朗 | 申请(专利权)人: | TDK株式会社 |
主分类号: | H01G13/00 | 分类号: | H01G13/00;H05K13/00;H05K3/40 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 电子部件的外部电极形成方法,包括膏准备工序、除去工序、元件准备工序、接触工序和形成工序。首先,准备具有可以插入构成电子部件的元件的沟部的夹具。夹具的沟部至少含有在从内侧向开口侧的方向上向外侧倾斜的第1壁面。在膏准备工序中,向沟部内填充导电膏。在除去工序中,将填充的导电膏沿第1壁面残留,除去残余部分。在元件准备工序中,将元件配置在沟部的正上方。在接触工序中,将元件插入到沟部内,使元件向第1壁面移动,使元件的一个棱线接触于第1壁面。在形成工序中,在元件的一个棱线接触于第1壁面的状态下,将元件沿第1壁面向开口侧移动的同时,以从第1壁面分离一个棱线的方式从第1壁面分离元件。 | ||
搜索关键词: | 外部 电极 形成 方法 | ||
【主权项】:
1.一种电子部件的外部电极形成方法,其特征在于,准备具有可以插入构成电子部件的元件的沟部的夹具,所述沟部至少具有在从内侧向开口侧的方向上向外侧倾斜的第1壁面,包括:膏准备工序,在所述沟部内填充导电膏;除去工序,使该填充的导电膏至少沿着所述第1壁面残留,并除去残余部分;元件准备工序,将所述元件配置在所述沟部的正上方;接触工序,将所述元件插入到所述沟部内,使所述元件向着所述第1壁面移动,使所述元件的一个棱线接触于所述第1壁面;和形成工序,在该接触状态下,将所述元件沿着所述沟部的所述第1壁面向所述开口侧移动的同时,从所述第1壁面分离所述元件,以此至少从所述第1壁面分离所述一个棱线。
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