[发明专利]一种用于辅助电荷存储器阵列的结构有效

专利信息
申请号: 200710002145.5 申请日: 2007-01-04
公开(公告)号: CN101005080A 公开(公告)日: 2007-07-25
发明(设计)人: 吴昭谊;李明修;郭明昌 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L29/792;G11C16/02;G11C16/10
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 韩宏
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一个辅助电荷存储器单元,包括一个晶体管,其包括,例如,一个p型衬底以及在p型衬底植入n+源极区域和n+漏极区域。栅极电极被形成在衬底以及部分源极和漏极区域上。该栅极电极包括陷获结构。该陷获结构在电性上被认为被分成两边。一边被当成辅助电荷端,通过陷获电子在该结构中,可以被固定在高电压。该电子被当成是辅助电荷。另一边可以被用来储存数据,是被当成数据端。介于辅助电荷端和数据端之间突变的电场,可以促进编程效率。
搜索关键词: 一种 用于 辅助 电荷 存储器 阵列 结构
【主权项】:
1.一种非易失性存储器阵列,包括多个辅助电荷存储器单元,每一个该多个辅助电荷存储器单元包括:一个辅助电荷端和一个数据端;以及一个突变的电场区域,由该多个辅助电荷存储器单元的每个的辅助电荷端和数据端所形成,该辅助电荷存储器单元被排列成对,其中在一对辅助电荷存储器单元中的辅助电荷端是相邻的。
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