[发明专利]相变化存储装置及其制造方法

摘要

一种相变化存储装置，其包括以光平板印刷方式形成的相变化存储单元，此单元包括第一与第二电极、以及相变化元件置于此二电极的两个相对接触元件之间，并将此二接触元件彼此连接。相变化元件具有宽度、长度与厚度。此长度、厚度与宽度小于用以形成此相变化存储单元之工艺的最小光平板印刷特征尺寸。用以形成此存储单元的光阻掩模尺寸可以被缩小，使得相变化元件的长度与宽度小于上述的最小光平板印刷特征尺寸。

主权项

1.一种相变化存储装置，包括：存储单元存取层；以及存储单元层，其选择性地连接至该存储单元存取层，该存储单元层包括以平板印刷方式形成的相变化存储单元，该存储单元包括：第一与第二电极，其分别具有相对且分隔的第一与第二接触元件；相变化元件，其位于该第一与第二接触元件之间，并将该第一与第二接触元件彼此电连接；该相变化元件包括宽度、长度、以及厚度，该长度测量于该第一与第二接触元件间，且该宽度测量与该长度垂直的方向；以及每一该长度、厚度、与宽度小于用以形成该相变化存储单元的最小平板印刷特征尺寸。