[发明专利]真空蒸镀设备及其防附着结构无效
| 申请号： | 200710002409.7 | 申请日： | 2007-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN100999813A | 公开（公告）日： | 2007-07-18 |
| 发明（设计）人： | 李兴铨 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/50 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 梁挥;徐金国 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种真空蒸镀设备及其防附着结构，该真空蒸镀设备包括有腔体、蒸镀源、防附着结构以及蒸镀机台，蒸镀源设置于腔体中且包括有蒸镀材料，防附着结构设置于腔体中且包括有防附着板、第一滚动条以及第二滚动条。防附着板用以承接蒸镀材料且包括有第一端部以及第二端部。第一滚动条与第一端部连接，第二滚动条与第二端部连接。蒸镀机台用以承载基板，并且基板会通过防附着板以及蒸镀机台之间，经由第一滚动条以及第二滚动条的转动以控制防附着板移动。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 设备 及其 附着 结构 | ||
【主权项】：
1.一种真空蒸镀设备的防附着结构，其特征在于，包括：一防附着板，包括有一第一端部以及一第二端部；一第一滚动条，连接于该第一端部；以及一第二滚动条，连接于该第二端部；其中通过该第一滚动条及该第二滚动条的转动以连动该防附着板。
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