[发明专利]相变记录介质无效
| 申请号： | 200710003356.0 | 申请日： | 2007-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN101013586A | 公开（公告）日： | 2007-08-08 |
| 发明（设计）人： | 中居司;大间知范威;芦田纯生;中村直正;柚须圭一郎;佐藤裕广 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | G11B7/257 | 分类号： | G11B7/257;G11B7/252;G11B7/243;G11B7/24;G11B7/004 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 | 代理人： | 陈源;张天舒 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种相变光盘，其具有基片(1a，1b)和包括干涉膜、相变记录膜、分界面膜和反射膜的多层结构(19，20)，在该相变光盘中可使用光可逆地把信息记录到记录膜上或从记录膜上擦除，构成相变记录膜的元素(例如，锗或碲)从接触相变记录膜(13a，13b)的部分(21a，21b)起在记录膜的厚度方向上具有偏析分布或浓度分布。 | ||
| 搜索关键词： | 相变 记录 介质 | ||
【主权项】：
1.一种光学记录介质，其包含基片和多层结构，所述多层结构包括干涉膜、配置来可逆地改变原子排列的记录膜、与所述记录膜接触的结晶促进膜、和反射膜，并且在所述光学记录介质中通过使用光可以将信息可逆地记录在所述记录膜上或从所述记录膜上擦除，所述光学记录介质的特征在于构成所述记录膜的元素从接触所述记录膜的部分起在所述记录膜的厚度方向上具有偏析分布和浓度分布中的一种分布。
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