[发明专利]电磁铁装置有效
| 申请号： | 200710004294.5 | 申请日： | 2007-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN101030471A | 公开（公告）日： | 2007-09-05 |
| 发明（设计）人： | 青木学;阿部充志;中山武;高桥正典 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号： | H01F7/20 | 分类号： | H01F7/20;A61B5/055 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人： | 张敬强 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种还可使远离超导线圈而设置的强磁性体磁饱和并减少因磁不饱和引起的强磁性体的磁化不均匀、可缩短均匀磁场调节所需作业时间的电磁铁装置。在一种通过隔着均匀磁场区域(4)而相对的一对超导主线圈(6)、隔着均匀磁场区域(4)而相对并流有与超导主线圈(6)相反电流的一对超导屏蔽线圈(7)以及隔着均匀磁场区域(4)而相对且外周为圆形的一对第一强磁性体(23)，从而在均匀磁场区域(4)中形成均匀磁场的电磁铁装置中，其特征在于，还具有一对第二强磁性体(34)，它们配置成隔着均匀磁场区域(4)而相对并与第一强磁性体(23)的均匀磁场区域(4)侧的相反侧相接或邻近且外周为比第一强磁性体(23)的圆形直径(d2、d4)大的圆形。 | ||
| 搜索关键词： | 电磁铁 装置 | ||
【主权项】：
1.一种电磁铁装置，通过隔着均匀磁场区域而相对的一对超导主线圈、隔着上述均匀磁场区域而相对并流有与上述超导主线圈相反电流的一对超导屏蔽线圈、以及隔着上述均匀磁场区域而相对且外周为圆形的一对第一强磁性体，从而在上述均匀磁场区域中形成均匀磁场，其特征在于，还具有一对第二强磁性体，它们隔着上述均匀磁场区域而相对并以相接或邻近的方式配置于上述第一强磁性体的与上述均匀磁场区域侧相反的一侧且外周为比上述第一强磁性体的圆形直径大的圆形。
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