[发明专利]波片和光头装置无效

专利信息
申请号: 200710005419.6 申请日: 2007-02-08
公开(公告)号: CN101017216A 公开(公告)日: 2007-08-15
发明(设计)人: 高桥崇;田中伸树;斋藤孝朗;中田达也;塚本拓也;北野广幸;饭田广希;宮川富士峰 申请(专利权)人: 拓普康株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G11B7/135;G11B7/22
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 蒋世迅
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种构建在光头光学系统中的波片,该波片包括用粘结剂粘结在玻璃基片上的有机薄膜,该光头光学系统是在预定使用温度范围中使用的。粘结剂的玻璃相变温度,高于预定使用温度范围,且粘结剂的线膨胀系数(K1)、有机薄膜的线膨胀系数(K2)、和玻璃基片的线膨胀系数(K3),在预定使用温度范围下,具有K3≤K1和K1≤K2的关系。当光头光学系统内的温度是普通温度时,粘结剂的线膨胀系数(K1)、有机薄膜的线膨胀系数(K2)、和玻璃基片的线膨胀系数(K3),能够满足关系K3<K1<K2,又当光头光学系统内的温度高于粘结剂的玻璃相变温度时,满足关系K3<K2<K1。即使激光波长因温度变化而起伏时,相位差发生与该波长起伏相符的变化。在光头装置中,设置上述相位差片,使它的排列位置是可变的。
搜索关键词: 光头 装置
【主权项】:
1.一种波片,构建在光头光学系统中并用在预定的使用温度范围中,该波片包括用粘结剂粘结于玻璃基片的有机薄膜,该粘结剂的玻璃相变温度,高于该预定的使用温度范围,和其中,粘结剂的线膨胀系数(K1)、有机薄膜的线膨胀系数(K2)、和玻璃基片的线膨胀系数(K3),满足K3≤K1和K1≤K2的关系。
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